mesa de lado a lado

Question

Estoy tratando de descubrir cómo poner estas tablas una al lado de la otra (o al menos en la forma adecuada)

\begin{table} 
\caption{Initial measurement of photoresist step heights for $15$ and $30$ wafers ($A^\circ$)}
\label{tab:fonts}
\begin{center}      
\begin{minipage}[b]{0.33\linewidth}\centering 
\begin{tabular}{|l|l|} %% this creates two columns
%% |l|l| to left justify each column entry
%% |c|c| to center each column entry
%% use of \rule[]{}{} below opens up each row
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $1$  & 1.4725   \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $3$  & 1.4725  \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $6$  & 1.495  \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $14$  &  1.492 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $16$  &   1.465\\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $20$  & 1.2525 \\
\hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\end{center}
\end{table}

\begin{table}
\caption{Post etch measurement of photoresist step heights for $15$ (4 mins) and $30$ (6 mins) wafers ($A^\circ$)}
\label{tab:fonts}
\begin{center}       
\begin{tabular}{|l|l|} %% this creates two columns
%% |l|l| to left justify each column entry
%% |c|c| to center each column entry
%% use of \rule[]{}{} below opens up each row
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $1$  & 1.5875   \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $3$  & 1.575  \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $6$  & 1.5925  \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $14$  &  1.66 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $16$  &   1.63\\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $20$  & 1.4625 \\
\hline
\end{tabular}
\end{center}
\end{table} 
\FloatBarrier
\begin{table} [h]
\caption{Post SPM treatment ($nm$)}
\label{tab:fonts}
\begin{center}       
\begin{tabular}{|l|l|} %% this creates two columns
%% |l|l| to left justify each column entry
%% |c|c| to center each column entry
%% use of \rule[]{}{} below opens up each row
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $1$  & 142.5   \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $3$  & 142.5  \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $6$  & 132.5  \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $14$  &  190 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $16$  &   197.5\\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    wafer $20$  & 192.5 \\
\hline
\end{tabular}
\end{center}
\end{table} 
\FloatBarrier

Segunda parte de la pregunta:

\begin{table}
\caption{Measurement of oxide thickness for blank wafer before etch (pre etch)} \label{tab:1}
\label{tab:fonts}
\begin{center}      
\begin{minipage}[b]{0.33\linewidth}\centering 
\begin{tabular}{|l|l|} %% this creates two columns
%% |l|l| to left justify each column entry
%% |c|c| to center each column entry
%% use of \rule[]{}{} below opens up each row
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    center & 5114 $A^\circ$   \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    top  & 5236 $A^\circ$   \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    right & 5196$A^\circ$ \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    bottom  &  5156$A^\circ$  \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    left  &   5211$A^\circ$  \\
\hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\end{center}
\end{table}

\begin{table}
\caption{Measurement of oxide thickness for blank wafer after etch (post etch)} \label{tab:2}
\label{tab:fonts}
\begin{center}      
\begin{minipage}[b]{0.33\linewidth}\centering 
\begin{tabular}{|l|l|} %% this creates two columns
%% |l|l| to left justify each column entry
%% |c|c| to center each column entry
%% use of \rule[]{}{} below opens up each row
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    center & 3088 $A^\circ$   \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    top  & 3154 $A^\circ$   \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    right & 3133$A^\circ$ \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    bottom  &  3043$A^\circ$  \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}    left  &   3112$A^\circ$  \\
\hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\end{center}
\end{table}

Answer 1

El floatrowpaquete le permite alinear fácilmente los títulos según sus líneas superiores. No es necesario agregar reglas invisibles para agregar algo de relleno a las filas: con el cellspacepaquete, puede definir un espacio vertical mínimo entre una fila y las celdas superiores e inferiores.

\documentclass[11pt]{article}
\usepackage[utf8]{inputenc}
\usepackage[showframe]{geometry}
\usepackage{caption, floatrow,cellspace}
\setlength\cellspacetoplimit{5pt}
\setlength\cellspacebottomlimit{5pt}
\DeclareFloatSeparators{mysep}{\hskip1.6em}
\begin{document}
\captionsetup{font=footnotesize}
\floatsetup{floatrowsep=mysep, capposition=TOP, captionskip =1.5ex}
\begin{table}[!hbt]
  \begin{floatrow}[3]
    \ttabbox[1.5\FBwidth]{\caption{Initial measurement of photoresist step heights for $15$ and $30$ wafers (\AA)}
      \label{tab:fontsa}}%
    {\begin{tabular}{|Sl|l|}
      \hline
      wafer $1$ & 1.4725 \\ \hline
      wafer $3$ & 1.4725 \\ \hline
      wafer $6$ & 1.495 \\ \hline
      wafer $14$ & 1.492 \\ \hline
      wafer $16$ & 1.465 \\ \hline
      wafer $20$ & 1.2525 \\ \hline
      \end{tabular}}%
    \hfill%
    \ttabbox[1.5\FBwidth]{\caption{Post etch measurement of photoresist step heights for $15$ (4 mins) and $30$ (6 mins) wafers (\AA)}%
      \label{tab:fontsb}}%
    {\begin{tabular}{|Sl|l|}
      \hline
      wafer $1$ & 1.5875 \\ \hline
      wafer $3$ & 1.575 \\ \hline
      wafer $6$ & 1.5925 \\ \hline
      wafer $14$ & 1.66\\ \hline
      wafer $16$ & 1.63 \\ \hline
      wafer $20$ & 1.4625 \\ \hline
      \end{tabular}}
    %
    \ttabbox{\caption{Post SPM treat\-ment ($nm$)} \label{tab:fonts3}}
    { \begin{tabular}{|Sl|l|} %% this creates two columns
      %% |l|l| to left justify each column entry
      %% |c|c| to center each column entry
      %% use of \rule[]{}{} below opens up each row
      \hline
      wafer $1$ & 142.5 \\ \hline
      wafer $3$ & 142.5 \\ \hline
      wafer $6$ & 132.5 \\ \hline
      wafer $14$ & 190 \\ \hline
      wafer $16$ & 197.5 \\ \hline
      wafer $20$ & 192.5 \\ \hline
      \end{tabular}}%
  \end{floatrow}
\end{table}
\end{document} 

Answer 2

¿Te gustaría tener algo como esto?

La imagen de arriba es generada por:

\documentclass{article}
    \usepackage{siunitx}

    \begin{document}
\begin{table}
    \begin{minipage}[b]{0.3\linewidth}\centering
\caption{Initial measurement of photoresist step heights for $15$ and $30$ wafers ($A^\circ$)}
\label{tab:fonts}
\begin{tabular}{|l|S[table-format=2.5]|}
    \hline
wafer $1$   &   1.4725   \\ \hline
wafer $3$   &   1.4725   \\ \hline
wafer $6$   &   1.495    \\ \hline
wafer $14$  &   1.492    \\ \hline
wafer $16$  &   1.465    \\ \hline
wafer $20$  &   1.2525   \\ \hline
\end{tabular}
    \end{minipage}
\hfill
    \begin{minipage}[b]{0.3\linewidth}\centering
\caption{Post etch measurement of photoresist step heights for $15$ (4 mins) and $30$ (6 mins) wafers ($A^\circ$)}
\label{tab:fonts}
\begin{tabular}{|l|S[table-format=2.5]|}
    \hline
wafer $1$   &   1.5875   \\ \hline
wafer $3$   &   1.575    \\ \hline
wafer $6$   &   1.5925   \\ \hline
wafer $14$  &   1.66     \\ \hline
wafer $16$  &   1.63     \\ \hline
wafer $20$  &   1.4625   \\ \hline
\end{tabular}
    \end{minipage}
\hfill
    \begin{minipage}[b]{0.3\linewidth}\centering
\caption{Post SPM treatment ($nm$)}
\label{tab:fonts}
\begin{tabular}{|l|S[table-format=4.2]|}
    \hline
wafer $1$   &   142.5   \\ \hline
wafer $3$   &   142.5   \\ \hline
wafer $6$   &   132.5   \\ \hline
wafer $14$  &   190     \\ \hline
wafer $16$  &   197.5   \\ \hline
wafer $20$  &   192.5   \\ \hline
\end{tabular}
    \end{minipage}
\end{table} 
    \end{document}

En su MWE, la función de \rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}se reemplaza por \renewcommand{\arraystretch}{1.3}, lo que hace que la altura de las celdas sea similar a la que tenía antes. Por la pregunta, no me queda claro qué le gustaría obtener con una combinación de "mini páginas", entornos "centrales" y el uso de \centering. Borro todos estos códigos y formo tres minipagesen los que están las tablas centradas por\centering comando.

Además de esto, agrego un paquete siunitxy uso su Stipo de columna para escribir mejor los números en sus tablas.

Nota: No me molesté con el formato de los subtítulos.

Anexo: Hagamos el servicio "hágalo por mí" para agregar la segunda parte de la pregunta (hago esto porque estoy feliz de que después de unas horas de reparar mi instalación de MikTeX vuelva a funcionar como lo deseo...). El código es:

    \begin{table}
    \centering
    \renewcommand{\arraystretch}{1.3}
\begin{minipage}[b]{0.33\linewidth}\centering
\caption{Measurement of oxide thickness for blank wafer before etch (pre etch)} \label{tab:1}
    \label{tab:fonts}
\begin{tabular}{|l|S[table-format=5.0,
                     table-space-text-post=\si{\angstrom}]<{\si{\angstrom}\ }|}
    \hline
center  &   5114    \\  \hline
top     &   5236    \\  \hline
right   &   5196    \\  \hline
bottom  &   5156    \\  \hline
left    &   5211    \\  \hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\hfil
\begin{minipage}[b]{0.33\linewidth}\centering
\caption{Measurement of oxide thickness for blank wafer after etch (post etch)} \label{tab:2}
\label{tab:fonts}
\begin{tabular}{|l|S[table-format=5.0,
                     table-space-text-post=\si{\angstrom}]<{\si{\angstrom}\ }|}
    \hline
center  &   3088    \\  \hline
top     &   3154    \\  \hline
right   &   3133    \\  \hline
bottom  &   3043    \\  \hline
left    &   3112    \\ \hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\end{table}

En el código anterior supongo que $A^\circ$ significa unidad Angstrom. Utilizo notación estandarizada para ello como se define en el paquete insiunitx` (esto no se consideró en la primera tabla).

Resultado: