
Я пытаюсь понять, как разместить эти таблицы рядом (или хотя бы в правильной форме)
\begin{table}
\caption{Initial measurement of photoresist step heights for $15$ and $30$ wafers ($A^\circ$)}
\label{tab:fonts}
\begin{center}
\begin{minipage}[b]{0.33\linewidth}\centering
\begin{tabular}{|l|l|} %% this creates two columns
%% |l|l| to left justify each column entry
%% |c|c| to center each column entry
%% use of \rule[]{}{} below opens up each row
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $1$ & 1.4725 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $3$ & 1.4725 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $6$ & 1.495 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $14$ & 1.492 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $16$ & 1.465\\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $20$ & 1.2525 \\
\hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\end{center}
\end{table}
\begin{table}
\caption{Post etch measurement of photoresist step heights for $15$ (4 mins) and $30$ (6 mins) wafers ($A^\circ$)}
\label{tab:fonts}
\begin{center}
\begin{tabular}{|l|l|} %% this creates two columns
%% |l|l| to left justify each column entry
%% |c|c| to center each column entry
%% use of \rule[]{}{} below opens up each row
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $1$ & 1.5875 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $3$ & 1.575 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $6$ & 1.5925 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $14$ & 1.66 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $16$ & 1.63\\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $20$ & 1.4625 \\
\hline
\end{tabular}
\end{center}
\end{table}
\FloatBarrier
\begin{table} [h]
\caption{Post SPM treatment ($nm$)}
\label{tab:fonts}
\begin{center}
\begin{tabular}{|l|l|} %% this creates two columns
%% |l|l| to left justify each column entry
%% |c|c| to center each column entry
%% use of \rule[]{}{} below opens up each row
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $1$ & 142.5 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $3$ & 142.5 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $6$ & 132.5 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $14$ & 190 \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $16$ & 197.5\\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} wafer $20$ & 192.5 \\
\hline
\end{tabular}
\end{center}
\end{table}
\FloatBarrier
Вторая часть вопроса:
\begin{table}
\caption{Measurement of oxide thickness for blank wafer before etch (pre etch)} \label{tab:1}
\label{tab:fonts}
\begin{center}
\begin{minipage}[b]{0.33\linewidth}\centering
\begin{tabular}{|l|l|} %% this creates two columns
%% |l|l| to left justify each column entry
%% |c|c| to center each column entry
%% use of \rule[]{}{} below opens up each row
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} center & 5114 $A^\circ$ \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} top & 5236 $A^\circ$ \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} right & 5196$A^\circ$ \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} bottom & 5156$A^\circ$ \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} left & 5211$A^\circ$ \\
\hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\end{center}
\end{table}
\begin{table}
\caption{Measurement of oxide thickness for blank wafer after etch (post etch)} \label{tab:2}
\label{tab:fonts}
\begin{center}
\begin{minipage}[b]{0.33\linewidth}\centering
\begin{tabular}{|l|l|} %% this creates two columns
%% |l|l| to left justify each column entry
%% |c|c| to center each column entry
%% use of \rule[]{}{} below opens up each row
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} center & 3088 $A^\circ$ \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} top & 3154 $A^\circ$ \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} right & 3133$A^\circ$ \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} bottom & 3043$A^\circ$ \\
\hline
\rule[-1ex]{0pt}{3.5ex} left & 3112$A^\circ$ \\
\hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\end{center}
\end{table}
решение1
Пакет floatrow
позволяет легко выравнивать подписи по их верхним линиям. Не нужно добавлять невидимые правила, чтобы добавить отступы к строкам: с помощью пакета cellspace
можно определить минимальный вертикальный интервал между строкой и ячейками выше и ниже.
\documentclass[11pt]{article}
\usepackage[utf8]{inputenc}
\usepackage[showframe]{geometry}
\usepackage{caption, floatrow,cellspace}
\setlength\cellspacetoplimit{5pt}
\setlength\cellspacebottomlimit{5pt}
\DeclareFloatSeparators{mysep}{\hskip1.6em}
\begin{document}
\captionsetup{font=footnotesize}
\floatsetup{floatrowsep=mysep, capposition=TOP, captionskip =1.5ex}
\begin{table}[!hbt]
\begin{floatrow}[3]
\ttabbox[1.5\FBwidth]{\caption{Initial measurement of photoresist step heights for $15$ and $30$ wafers (\AA)}
\label{tab:fontsa}}%
{\begin{tabular}{|Sl|l|}
\hline
wafer $1$ & 1.4725 \\ \hline
wafer $3$ & 1.4725 \\ \hline
wafer $6$ & 1.495 \\ \hline
wafer $14$ & 1.492 \\ \hline
wafer $16$ & 1.465 \\ \hline
wafer $20$ & 1.2525 \\ \hline
\end{tabular}}%
\hfill%
\ttabbox[1.5\FBwidth]{\caption{Post etch measurement of photoresist step heights for $15$ (4 mins) and $30$ (6 mins) wafers (\AA)}%
\label{tab:fontsb}}%
{\begin{tabular}{|Sl|l|}
\hline
wafer $1$ & 1.5875 \\ \hline
wafer $3$ & 1.575 \\ \hline
wafer $6$ & 1.5925 \\ \hline
wafer $14$ & 1.66\\ \hline
wafer $16$ & 1.63 \\ \hline
wafer $20$ & 1.4625 \\ \hline
\end{tabular}}
%
\ttabbox{\caption{Post SPM treat\-ment ($nm$)} \label{tab:fonts3}}
{ \begin{tabular}{|Sl|l|} %% this creates two columns
%% |l|l| to left justify each column entry
%% |c|c| to center each column entry
%% use of \rule[]{}{} below opens up each row
\hline
wafer $1$ & 142.5 \\ \hline
wafer $3$ & 142.5 \\ \hline
wafer $6$ & 132.5 \\ \hline
wafer $14$ & 190 \\ \hline
wafer $16$ & 197.5 \\ \hline
wafer $20$ & 192.5 \\ \hline
\end{tabular}}%
\end{floatrow}
\end{table}
\end{document}
решение2
Вам нравится что-то вроде этого:
Изображение выше создано:
\documentclass{article}
\usepackage{siunitx}
\begin{document}
\begin{table}
\begin{minipage}[b]{0.3\linewidth}\centering
\caption{Initial measurement of photoresist step heights for $15$ and $30$ wafers ($A^\circ$)}
\label{tab:fonts}
\begin{tabular}{|l|S[table-format=2.5]|}
\hline
wafer $1$ & 1.4725 \\ \hline
wafer $3$ & 1.4725 \\ \hline
wafer $6$ & 1.495 \\ \hline
wafer $14$ & 1.492 \\ \hline
wafer $16$ & 1.465 \\ \hline
wafer $20$ & 1.2525 \\ \hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\hfill
\begin{minipage}[b]{0.3\linewidth}\centering
\caption{Post etch measurement of photoresist step heights for $15$ (4 mins) and $30$ (6 mins) wafers ($A^\circ$)}
\label{tab:fonts}
\begin{tabular}{|l|S[table-format=2.5]|}
\hline
wafer $1$ & 1.5875 \\ \hline
wafer $3$ & 1.575 \\ \hline
wafer $6$ & 1.5925 \\ \hline
wafer $14$ & 1.66 \\ \hline
wafer $16$ & 1.63 \\ \hline
wafer $20$ & 1.4625 \\ \hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\hfill
\begin{minipage}[b]{0.3\linewidth}\centering
\caption{Post SPM treatment ($nm$)}
\label{tab:fonts}
\begin{tabular}{|l|S[table-format=4.2]|}
\hline
wafer $1$ & 142.5 \\ \hline
wafer $3$ & 142.5 \\ \hline
wafer $6$ & 132.5 \\ \hline
wafer $14$ & 190 \\ \hline
wafer $16$ & 197.5 \\ \hline
wafer $20$ & 192.5 \\ \hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\end{table}
\end{document}
В вашем MWE роль \rule[-1ex]{0pt}{3.5ex}
заменяется на \renewcommand{\arraystretch}{1.3}
, что делает высоту ячеек такой же, как и раньше. Из вопроса мне не ясно, что вы хотите получить с помощью смеси "мини-страниц", "центральных" сред и использования \centering
. Я очищаю все эти коды и формирую три, minipages
в которых таблицы центрируются \centering
командой.
Помимо этого я добавляю пакет siunitx
и использую его S
тип столбца для более удобного ввода чисел в ваших таблицах.
Примечание: Я не стал заморачиваться с форматированием подписей.
Дополнение: Давайте сделаем услугу «сделай это за меня» для добавленной второй части вопроса (я делаю это, потому что я счастлив, что после нескольких часов восстановления моей установки MikTeX она снова работает так, как хотелось бы...). Код такой:
\begin{table}
\centering
\renewcommand{\arraystretch}{1.3}
\begin{minipage}[b]{0.33\linewidth}\centering
\caption{Measurement of oxide thickness for blank wafer before etch (pre etch)} \label{tab:1}
\label{tab:fonts}
\begin{tabular}{|l|S[table-format=5.0,
table-space-text-post=\si{\angstrom}]<{\si{\angstrom}\ }|}
\hline
center & 5114 \\ \hline
top & 5236 \\ \hline
right & 5196 \\ \hline
bottom & 5156 \\ \hline
left & 5211 \\ \hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\hfil
\begin{minipage}[b]{0.33\linewidth}\centering
\caption{Measurement of oxide thickness for blank wafer after etch (post etch)} \label{tab:2}
\label{tab:fonts}
\begin{tabular}{|l|S[table-format=5.0,
table-space-text-post=\si{\angstrom}]<{\si{\angstrom}\ }|}
\hline
center & 3088 \\ \hline
top & 3154 \\ \hline
right & 3133 \\ \hline
bottom & 3043 \\ \hline
left & 3112 \\ \hline
\end{tabular}
\end{minipage}
\end{table}
В коде выше я предполагаю, что $A^\circ$ означает единицу измерения Ангстрем. Я использую для нее стандартизированную нотацию, определенную в пакете insiunitx` (это не учитывалось в первой таблице).
Результат: